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玻璃蚀刻工艺简介
玻璃蚀刻是通过化学或物理方法选择性去除玻璃表面材料,形成图案或微结构的技术。主要分为两类:
- 化学蚀刻(湿法):使用氢氟酸(HF)或氟化铵(NH₄F)等腐蚀性溶液,通过化学反应溶解玻璃表面,适用于大面积或复杂图案。
- 物理蚀刻(干法/激光):采用等离子体轰击或激光烧蚀,通过高能束去除材料,精度可达微米级,适用于精细电子元件。
核心流程包括:
- 基板处理:清洁玻璃并涂覆光刻胶;
- 图案转移:通过曝光、显影形成保护层模板;
- 蚀刻与清洗:腐蚀暴露区域后彻底清洗残留物;
- 后处理:抛光或涂层增强功能。
应用范围玻璃蚀刻技术凭借高精度和定制化优势,广泛应用于:
- 电子行业:显示屏、微流控芯片及传感器中的精密电路;
- 建筑与家居:隔断玻璃、艺术镜面的装饰纹理,兼顾美观与隐私保护;
- 汽车制造:挡风玻璃的防眩光处理、仪表盘标识蚀刻;
- 光学器件:光纤连接器、激光透镜的微结构加工;
- 工艺品与礼品:定制酒杯、奖杯的文字或图案雕刻。
未来,随着激光技术和环保蚀刻液(如氟化铵)的发展,该工艺将进一步向高效率、低污染方向演进,拓展至医疗器械、智能设备等新兴领域。
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